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Photolithography Instruments

> 제품소개 > 태양광전지실험 > Photolithography Instruments

  • Newport Oriel Photolithography Instruments는 반도체 제조 공정에 사용되는 자외선 노광기, Mask Alignment Fixture, Viewing System으로 구성되어 있습니다.

Photolithography Instruments

관련 품목

Motion Selection Guide pdfMask Alignment Tool

Motion Selection Guide pdfUV Flood Exposure Source

Overview of Photolithography Instruments

  • UV Flood Exposure Source (자외선 노광기)

UV Flood Exposure Source (자외선 노광기)

  • DUV(220-260nm), MUV(260-320nm), NIR(350-450) 파장영역의 자외선 노광 시스템
  • 노광기 Output Beam Size는 2 Inch에서 10 Inch까지 선택 가능
  • 노광기에서 조사되는 광량의 지속적이고 안정한 광량 유지와 내부의 Timed Shutter 제어를 위한 Digital Exposure Controller 선택가능
  • Note : 더 많은 자료가 필요하시면 www.newport.com에서 확인하세요
  • Mask Alignment Tool

Mask Alignment Tool

Mask Alignment Fixture

  • Vacuum Type의 Mask Alignment Fixture
  • 선택적으로 Substrate Size 1 Inch~6 Inch까지 장착 가능
  • 선택적으로 Wafer Size 2 Inch~6 Inch까지 장착 가능
  • 선택적으로 Photomask Holder 2 Inch~7Inch까지 이용 가능

Viewing System

  • Substrate 또는 Wafer Inspection을 위한 검사 장비
  • Splitfield Microscope Type과 Stereo Zoom Type 선택
  • Note : 더 많은 자료가 필요하시면 www.newport.com 에서 확인하세요

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